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EuF3晶体

EuF₃(氟化铕)是一种重要的稀土氟化物功能材料,在光学、激光、催化及核工业等领域具有广泛应用。其优异的光学性能、稳定的物理化学特性以及独特的发光性质,使其成为可见光至红外波段光学元件和功能材料的理想选择。

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技术参数
特殊规格可根据客户需求定制

 产品特点

        我司推出的EuF₃(氟化铕)晶体,具备高光学质量、宽透光范围和良好的抗环境老化能力。该晶体在可见光区域具有特征发射峰,同时具备较高的抗辐射性能和热稳定性,适用于激光器件、辐射探测及特种光学系统。我司通过精密晶体生长与加工工艺,确保晶体光学均匀性高、吸收低,满足多种高端应用需求。
 

基本特性

物理量
数值
备注
晶体结构
六方晶系
/
密度
6.5 g/cm³
/
莫氏硬度
4 - 5 Mohs
/
熔点
1390 °C
/
透光范围
0.3 - 5.0 μm
核心优势之一,覆盖从深紫外到中红外的宽广波段
折射率
1.6
/
热膨胀系数
α∥ ≈ 15.0 x 10⁻⁶ /K, α⊥ ≈ 9.5 x 10⁻⁶ /K
20°C-400°C
热导率
3.2 W/m/K
室温
闪烁性能
发射峰 ~590 nm
特征发射位于可见光区,适用于荧光和发光应用。
衰减时间
1 - 10 ms
适用于荧光和持久发光场合
光产额
N/A
/
抗辐射硬度
核心优势之二,在高辐射环境下性能稳定,寿命长
潮解性
轻微
需在干燥环境中存储和处理
相对介电常数 (1kHz)
ε ≈ 8 - 10
/
 

CeF3晶体规格指标

指标项
具体参数
材料
CeF₃
标准取向
c-轴 / a-轴
光学均匀性
Δn ≤ 2 x 10⁻⁵ @ 632.8 nm
波前畸变
< λ/8 @ 632.8 nm
晶体尺寸
直径1"-3",厚度0.5mm - 50mm (可接受定制)
尺寸公差
±0.1 mm (可接受定制)
平行度
< 20″
垂直度
≤ 10′
平面度
λ/8 @ 633 nm
光洁度
10-5 (MIL-PRF-13830B)
倒边
< 0.2 mm x 45°
体吸收系数 (@355nm)
< 0.01 /cm
涂层
可镀制深紫外(如193nm)、可见或红外增透膜。接收定制
保质期
12个月(须在干燥(湿度<40%RH)、无尘、室温环境下密封保存)
 

应用领域:

一、辐射探测与核技术

  • 辐射探测器闪烁体:利用其抗辐射性能和特征发光,用于核辐射监测、环境监测及科研探测设备。

二光学涂层与薄膜

  • 高性能光学涂层:在激光镜片、窗口和滤光片中用作增透膜或保护膜,提升光学系统性能和耐久性。

三、科研与特种光学

  • 紫外/红外光学元件:作为窗口、棱镜或透镜,在宽波段光学系统中使用,尤其适用于需要高透过率和稳定性的场合。
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