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产品展示 >> 光学晶体 >> 磁光晶体 >> CeF3 晶体

CeF3 晶体

CeF₃(氟化铈)是一种重要的稀土氟化物功能材料,在光学、催化、核工业等领域应用广泛,尤其因优异的光学透过性和稳定性,成为紫外 - 中红外波段光学元件的关键原料。产品特点

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技术参数
特殊规格可根据客户需求定制

 产品特点

        我司推出的CeF₃(氟化铈)晶体,是一款具有优异综合性能的光学晶体。它以其独特的宽透光范围(尤其覆盖深紫外至红外)、极快的闪烁衰减时间及出色的抗辐射性能,在高端物理实验、核医学成像及深紫外光刻等领域成为不可替代的核心材料。我司通过先进的晶体生长与后处理工艺,确保晶体具有高的光学均匀性和低吸收特性,满足最严苛的应用需求。

基本特性

物理量
数值
备注
晶体结构
六方晶系
/
密度
6.16 g/cm³
/
莫氏硬度
4 - 5 Mohs
/
熔点
1460 °C
/
透光范围
0.3 - 5.0 μm
核心优势之一,覆盖从深紫外到中红外的宽广波段。
折射率
1.62
 
热膨胀系数 (20°C-400°C)
α∥ ≈ 16.5 x 10⁻⁶ /K, α⊥ ≈ 10.5 x 10⁻⁶ /K
20°C-400°C
热导率
3.5 W/m/K
300K。
闪烁性能
发射峰 ~310 nm / ~340 nm
/
衰减时间
10 - 30 ns
核心优势之二,极快的衰减时间,适用于高计数率场合。
光产额
5,000 photons/MeV
 
抗辐射硬度
核心优势之三,在高辐射环境下性能退化小,寿命长。
潮解性
轻微
需在干燥环境中存储和处理。
相对介电常数 (1kHz)
ε ≈ 8 - 10
/
 

CeF3晶体规格指标

指标项
具体参数
材料
CeF₃
标准取向
c-轴 / a-轴
光学均匀性
Δn ≤ 2 x 10⁻⁵ @ 632.8 nm
波前畸变
< λ/8 @ 632.8 nm
晶体尺寸
直径1"-3",厚度0.5mm - 50mm (可接受定制)
尺寸公差
±0.1 mm (可接受定制)
平行度
< 20″
垂直度
≤ 10′
平面度
λ/8 @ 633 nm
光洁度
10-5 (MIL-PRF-13830B)
倒边
< 0.2 mm x 45°
体吸收系数 (@355nm)
< 0.01 /cm
涂层
可镀制深紫外(如193nm)、可见或红外增透膜。接收定制
保质期
12个月(须在干燥(湿度<40%RH)、无尘、室温环境下密封保存)
 

应用领域:

一、高能物理与核物理实验

  • 粒子探测器电磁量能器:作为闪烁体,其极快的衰减时间和高的抗辐射硬度,使其在高亮度对撞机(如LHC、CEPC等)的粒子探测中至关重要,可用于精确测量电子和光子的能量与时间。

二、核医学成像

  • PET/MRI兼容探测器:其快时间特性有助于提升正电子发射断层扫描的时间分辨率,同时因其非 hygroscopic 特性与MR磁场兼容性好,为下一代高性能PET探测器提供了解决方案。

三、半导体制造

  • 深紫外光刻光学元件:得益于其在193nm等深紫外波段良好的透过率和抗激光损伤能力,可用于制造光刻机中的透镜、棱镜等光学元件。

四、科研与特种设备

  • 高速闪烁探测与成像:用于时间飞行测量、核谱仪等需要高时间分辨率的科研设备。
  • 紫外/深紫外激光系统窗口/棱镜:利用其宽广的紫外透过范围,作为激光器腔镜、窗口和色散元件的理想材料。

五、辐射探测与安全

  • 核辐射监测与环境监测:用于制造能在高辐射环境下稳定工作的辐射探测器和监测设备。
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